不銹(xiu)鋼(gang)常(chang)用的幾種拋光(guang)方(fang)法

一、機械拋光

機械拋(pao)(pao)(pao)光(guang)是(shi)靠切(qie)削、材料表(biao)面塑(su)性變形去(qu)掉被拋(pao)(pao)(pao)光(guang)后的(de)凸部而得到平滑面的(de)拋(pao)(pao)(pao)光(guang)方(fang)法(fa)，一般使(shi)用(yong)油石條、羊毛(mao)輪、砂(sha)紙等，以手工(gong)操作為主(zhu)，特殊零件如回轉體表(biao)面，可使(shi)用(yong)轉臺等輔助(zhu)工(gong)具，表(biao)面質量要求(qiu)高的(de)可采(cai)用(yong)超(chao)精(jing)研(yan)拋(pao)(pao)(pao)的(de)方(fang)法(fa)。超(chao)精(jing)研(yan)拋(pao)(pao)(pao)是(shi)采(cai)用(yong)特制的(de)磨(mo)具，在含(han)有磨(mo)料的(de)研(yan)拋(pao)(pao)(pao)液中，緊壓(ya)在工(gong)件被加工(gong)表(biao)面上，作高速旋轉運動。利用(yong)該技(ji)術可以達到Ra0.008μm的(de)表(biao)面粗糙(cao)度。光(guang)學鏡片模具常采(cai)用(yong)這種(zhong)方(fang)法(fa)。

二、化學拋光

化(hua)(hua)學(xue)(xue)拋光(guang)是(shi)讓材料(liao)在(zai)化(hua)(hua)學(xue)(xue)介(jie)質(zhi)中表(biao)面(mian)(mian)微觀凸出的部分(fen)較凹部分(fen)優(you)先溶(rong)解，從而得(de)到平(ping)滑面(mian)(mian)。這種方(fang)法(fa)的主要優(you)點是(shi)不需復雜(za)設備，可以(yi)拋光(guang)形狀(zhuang)復雜(za)的工件(jian)，可以(yi)同時拋光(guang)很多工件(jian)，效(xiao)率高。化(hua)(hua)學(xue)(xue)拋光(guang)的核(he)心問題是(shi)拋光(guang)液的配制(zhi)。化(hua)(hua)學(xue)(xue)拋光(guang)得(de)到的表(biao)面(mian)(mian)粗糙度一般為(wei)數(shu)10μm。

三、電解拋光

電解(jie)拋光(guang)(guang)基本(ben)原(yuan)理與化學拋光(guang)(guang)相(xiang)同，即靠(kao)選擇性(xing)的(de)溶(rong)解(jie)材(cai)料(liao)表面(mian)(mian)微小凸(tu)出(chu)部(bu)分(fen)，使表面(mian)(mian)光(guang)(guang)滑。與化學拋光(guang)(guang)相(xiang)比，可以消除陰極反(fan)應的(de)影(ying)響，效果較好。電化學拋光(guang)(guang)過程分(fen)為兩步(bu): (1)宏觀整(zheng)平(ping) 溶(rong)解(jie)產物向(xiang)電解(jie)液(ye)中(zhong)擴散，材(cai)料(liao)表面(mian)(mian)幾何粗糙下降(jiang)，Ra>1μm。(2)微光(guang)(guang)平(ping)整(zheng) 陽(yang)極極化，表面(mian)(mian)光(guang)(guang)亮度提高(gao)，Ra<1μm。

四、超聲波拋光

將(jiang)工(gong)件放入磨料懸(xuan)浮液中并一起(qi)置于超(chao)(chao)聲波(bo)(bo)場(chang)中，依靠超(chao)(chao)聲波(bo)(bo)的振(zhen)蕩作(zuo)(zuo)用，使磨料在工(gong)件表(biao)面(mian)磨削拋光。超(chao)(chao)聲波(bo)(bo)加工(gong)宏觀力小，不會引(yin)起(qi)工(gong)件變(bian)形，但工(gong)裝(zhuang)制(zhi)作(zuo)(zuo)和安裝(zhuang)較困難。超(chao)(chao)聲波(bo)(bo)加工(gong)可(ke)以(yi)與化(hua)學或電化(hua)學方法結(jie)合。在溶(rong)液腐蝕(shi)(shi)、電解(jie)(jie)(jie)的基(ji)礎(chu)上，再施加超(chao)(chao)聲波(bo)(bo)振(zhen)動攪(jiao)拌溶(rong)液，使工(gong)件表(biao)面(mian)溶(rong)解(jie)(jie)(jie)產物(wu)脫離(li)，表(biao)面(mian)附近的腐蝕(shi)(shi)或電解(jie)(jie)(jie)質均勻；超(chao)(chao)聲波(bo)(bo)在液體中的空(kong)化(hua)作(zuo)(zuo)用還能夠阻(zu)止腐蝕(shi)(shi)過(guo)程，利于表(biao)面(mian)光亮(liang)化(hua)。

五、流體拋光

流體(ti)拋(pao)光是(shi)依靠高速流動(dong)的(de)液(ye)體(ti)及其攜帶的(de)磨(mo)(mo)粒沖刷工件(jian)表面達(da)到(dao)拋(pao)光的(de)目的(de)。常用方法有:磨(mo)(mo)料(liao)噴射加(jia)(jia)工、液(ye)體(ti)噴射加(jia)(jia)工、流體(ti)動(dong)力研(yan)磨(mo)(mo)等。流體(ti)動(dong)力研(yan)磨(mo)(mo)是(shi)由液(ye)壓驅動(dong)，使攜帶磨(mo)(mo)粒的(de)液(ye)體(ti)介(jie)質高速往復流過(guo)工件(jian)表面。介(jie)質主(zhu)要采用在較低壓力下(xia)流過(guo)性好的(de)特(te)殊(shu)化合(he)物(wu)(聚合(he)物(wu)狀物(wu)質)并摻上磨(mo)(mo)料(liao)制成(cheng)，磨(mo)(mo)料(liao)可采用碳(tan)化硅(gui)粉末(mo)。

六、磁研磨拋光

磁(ci)(ci)研磨(mo)拋光是利用(yong)(yong)磁(ci)(ci)性磨(mo)料在磁(ci)(ci)場(chang)作用(yong)(yong)下形(xing)成磨(mo)料刷，對工(gong)件磨(mo)削加(jia)工(gong)。這種方法加(jia)工(gong)效率高，質量好，加(jia)工(gong)條件容易控制，工(gong)作條件好。采用(yong)(yong)合適(shi)的磨(mo)料，表面粗糙度(du)可(ke)以達到(dao)Ra0.1μm。

七、化學機械拋光

化學(xue)機(ji)械研(yan)磨(mo)技術綜合了化學(xue)研(yan)磨(mo)和機(ji)械研(yan)磨(mo)的優勢，是現在常用(yong)的拋光(guang)方法，連手機(ji)殼，取(qu)卡(ka)針，按鍵等都是用(yong)金(jin)鑫(xin)平(ping)(ping)面(mian)研(yan)磨(mo)機(ji)拋光(guang)的。可(ke)以在保證材料去除(chu)效(xiao)率(lv)的同時，獲得較完美的表(biao)面(mian)，得到(dao)(dao)的平(ping)(ping)整度比單純(chun)使用(yong)這(zhe)兩種研(yan)磨(mo)要高出1-2個數量級(ji)(ji)，并且(qie)可(ke)以實現納米級(ji)(ji)到(dao)(dao)原子級(ji)(ji)的表(biao)面(mian)粗糙度。而且(qie)拋光(guang)出來的鏡面(mian)效(xiao)果亮度很高，沒(mei)有斷層，平(ping)(ping)面(mian)性好。一般用(yong)金(jin)鑫(xin)平(ping)(ping)面(mian)研(yan)磨(mo)機(ji)可(ke)以達到(dao)(dao)又快又好的效(xiao)果。