拋光(guang)液對拋光(guang)工(gong)藝的影(ying)響(xiang)

1.溫度(du)：溫度(du)的(de)(de)升高增強了(le)拋光(guang)液的(de)(de)化學反應能力(li)，提高了(le)拋光(guang)速率。但(dan)是溫度(du)太高會(hui)引起拋光(guang)液體(ti)的(de)(de)揮(hui)發和化學反應的(de)(de)加速將(jiang)導(dao)致嚴(yan)重(zhong)的(de)(de)表面腐蝕，這將(jiang)產(chan)生不(bu)均勻(yun)的(de)(de)拋光(guang)效果(guo)并(bing)降低(di)拋光(guang)質量下降。

2.pH值(zhi)(zhi)：拋光(guang)液的(de)pH值(zhi)(zhi)越(yue)高，堿度(du)越(yue)強，反應速度(du)越(yue)快(kuai)。 但是(shi)，pH值(zhi)(zhi)是(shi)溶液和溶解度(du)以及拋光(guang)液的(de)穩定性有很大的(de)影(ying)響，影(ying)響材料的(de)去除率和表面質量，因此應嚴格(ge)控制。

3.壓(ya)(ya)(ya)力(li)(li)：通常，壓(ya)(ya)(ya)力(li)(li)越高(gao)，拋(pao)光(guang)(guang)速(su)(su)度(du)越快。 然而，當壓(ya)(ya)(ya)力(li)(li)足夠高(gao)時，拋(pao)光(guang)(guang)速(su)(su)率將(jiang)略微降低(di)。由于(yu)高(gao)壓(ya)(ya)(ya)，拋(pao)光(guang)(guang)墊承載拋(pao)光(guang)(guang)液的能力(li)(li)降低(di)。 另外(wai)，大(da)壓(ya)(ya)(ya)力(li)(li)容(rong)易(yi)形成碎(sui)片(pian)。

4.旋(xuan)轉(zhuan)速(su)度：旋(xuan)轉(zhuan)速(su)度的(de)(de)增加會導致拋(pao)光(guang)速(su)率的(de)(de)增加。 但(dan)是，如果(guo)轉(zhuan)速(su)過高，則(ze)拋(pao)光(guang)液會不均(jun)勻(yun)地(di)分(fen)布在拋(pao)光(guang)墊(dian)上(shang)均(jun)勻(yun)地(di)影(ying)響拋(pao)光(guang)質量(liang)。

5.拋光(guang)(guang)液(ye)濃度：當拋光(guang)(guang)液(ye)濃度增加(jia)時，去除(chu)率也(ye)增加(jia)，但是當磨(mo)粒(li)濃度超過一定值時，材料去除(chu)率將停(ting)止增加(jia)并保持恒定值。 這種現象稱為(wei)去除(chu)飽和。 濃度過高可能會(hui)導致表面缺(que)陷（劃痕）增加(jia)，影響表面質量。