不(bu)銹鋼常用的幾種拋光(guang)方(fang)法(fa)

一、機械拋光

機械拋(pao)光(guang)是(shi)靠切削、材料(liao)表(biao)面(mian)塑性變形去掉被拋(pao)光(guang)后的(de)凸部而得到平滑面(mian)的(de)拋(pao)光(guang)方法(fa)，一般(ban)使(shi)用(yong)油石(shi)條、羊毛輪、砂紙等，以(yi)手(shou)工(gong)(gong)操作為主，特殊零件(jian)(jian)如回轉(zhuan)體表(biao)面(mian)，可使(shi)用(yong)轉(zhuan)臺等輔(fu)助(zhu)工(gong)(gong)具，表(biao)面(mian)質量要(yao)求(qiu)高(gao)的(de)可采(cai)用(yong)超精(jing)研拋(pao)的(de)方法(fa)。超精(jing)研拋(pao)是(shi)采(cai)用(yong)特制的(de)磨(mo)具，在(zai)含有磨(mo)料(liao)的(de)研拋(pao)液中，緊壓(ya)在(zai)工(gong)(gong)件(jian)(jian)被加(jia)工(gong)(gong)表(biao)面(mian)上，作高(gao)速旋轉(zhuan)運動(dong)。利用(yong)該技(ji)術可以(yi)達到Ra0.008μm的(de)表(biao)面(mian)粗糙度。光(guang)學鏡片模具常采(cai)用(yong)這種方法(fa)。

二、化學拋光

化(hua)學拋(pao)(pao)光是讓材(cai)料(liao)在化(hua)學介質中(zhong)表(biao)面微觀凸出的(de)(de)部(bu)分(fen)較凹部(bu)分(fen)優先溶(rong)解，從而得(de)到平滑面。這種方法(fa)的(de)(de)主(zhu)要優點是不需復(fu)雜(za)設(she)備，可以(yi)拋(pao)(pao)光形狀復(fu)雜(za)的(de)(de)工(gong)件(jian)，可以(yi)同(tong)時(shi)拋(pao)(pao)光很多工(gong)件(jian)，效率(lv)高(gao)。化(hua)學拋(pao)(pao)光的(de)(de)核(he)心問題是拋(pao)(pao)光液的(de)(de)配制(zhi)。化(hua)學拋(pao)(pao)光得(de)到的(de)(de)表(biao)面粗糙(cao)度一般為數10μm。

三、電解拋光

電解(jie)拋光(guang)基本(ben)原理(li)與(yu)化(hua)學拋光(guang)相同，即(ji)靠選擇性的溶解(jie)材(cai)料(liao)表(biao)(biao)面(mian)微小凸出部分(fen)，使表(biao)(biao)面(mian)光(guang)滑。與(yu)化(hua)學拋光(guang)相比(bi)，可以消除(chu)陰極反應的影響，效(xiao)果較好。電化(hua)學拋光(guang)過程分(fen)為兩(liang)步: (1)宏(hong)觀整平(ping) 溶解(jie)產物向電解(jie)液(ye)中擴散，材(cai)料(liao)表(biao)(biao)面(mian)幾何粗糙下降，Ra>1μm。(2)微光(guang)平(ping)整 陽極極化(hua)，表(biao)(biao)面(mian)光(guang)亮(liang)度提高，Ra<1μm。

四、超聲波拋光

將工(gong)件放入(ru)磨料懸浮液(ye)中(zhong)并(bing)一起置于超(chao)(chao)(chao)聲(sheng)(sheng)波(bo)(bo)場中(zhong)，依靠超(chao)(chao)(chao)聲(sheng)(sheng)波(bo)(bo)的振蕩(dang)作(zuo)用，使(shi)磨料在(zai)(zai)(zai)工(gong)件表面(mian)磨削拋光。超(chao)(chao)(chao)聲(sheng)(sheng)波(bo)(bo)加工(gong)宏觀力小(xiao)，不會引起工(gong)件變形(xing)，但工(gong)裝(zhuang)(zhuang)制(zhi)作(zuo)和安(an)裝(zhuang)(zhuang)較困難(nan)。超(chao)(chao)(chao)聲(sheng)(sheng)波(bo)(bo)加工(gong)可以與化(hua)學(xue)(xue)或電化(hua)學(xue)(xue)方法結合。在(zai)(zai)(zai)溶液(ye)腐(fu)蝕、電解的基礎上，再施加超(chao)(chao)(chao)聲(sheng)(sheng)波(bo)(bo)振動攪拌溶液(ye)，使(shi)工(gong)件表面(mian)溶解產物脫(tuo)離，表面(mian)附近的腐(fu)蝕或電解質(zhi)均勻；超(chao)(chao)(chao)聲(sheng)(sheng)波(bo)(bo)在(zai)(zai)(zai)液(ye)體中(zhong)的空化(hua)作(zuo)用還能夠阻止腐(fu)蝕過程，利于表面(mian)光亮化(hua)。

五、流體拋光

流體(ti)拋(pao)光(guang)(guang)是依靠高(gao)速(su)流動的(de)液(ye)(ye)體(ti)及其攜帶(dai)的(de)磨粒(li)沖刷工件表面(mian)(mian)達(da)到拋(pao)光(guang)(guang)的(de)目(mu)的(de)。常用(yong)方法有(you):磨料(liao)噴射加工、液(ye)(ye)體(ti)噴射加工、流體(ti)動力研(yan)磨等(deng)。流體(ti)動力研(yan)磨是由液(ye)(ye)壓驅動，使攜帶(dai)磨粒(li)的(de)液(ye)(ye)體(ti)介(jie)(jie)質高(gao)速(su)往復流過工件表面(mian)(mian)。介(jie)(jie)質主要采用(yong)在較低壓力下流過性好的(de)特殊化合(he)物(聚合(he)物狀物質)并摻(chan)上磨料(liao)制(zhi)成，磨料(liao)可采用(yong)碳化硅粉(fen)末(mo)。

六、磁研磨拋光

磁(ci)研磨拋光是利用(yong)磁(ci)性磨料(liao)在磁(ci)場作用(yong)下(xia)形成磨料(liao)刷，對工件(jian)磨削(xue)加(jia)工。這(zhe)種方法加(jia)工效(xiao)率高，質量好，加(jia)工條(tiao)(tiao)件(jian)容(rong)易(yi)控制(zhi)，工作條(tiao)(tiao)件(jian)好。采(cai)用(yong)合適(shi)的磨料(liao)，表面粗糙度可(ke)以達(da)到Ra0.1μm。

七、化學機械拋光

化(hua)(hua)學機(ji)(ji)械(xie)研(yan)(yan)(yan)磨技術綜(zong)合了(le)化(hua)(hua)學研(yan)(yan)(yan)磨和機(ji)(ji)械(xie)研(yan)(yan)(yan)磨的(de)(de)優勢，是現在常用的(de)(de)拋(pao)(pao)光方(fang)法，連(lian)手機(ji)(ji)殼，取卡針，按(an)鍵(jian)等都是用金鑫平面(mian)研(yan)(yan)(yan)磨機(ji)(ji)拋(pao)(pao)光的(de)(de)。可(ke)以在保證材料(liao)去除效(xiao)率(lv)的(de)(de)同(tong)時，獲得較完美的(de)(de)表面(mian)，得到(dao)的(de)(de)平整(zheng)度比單(dan)純(chun)使用這兩種(zhong)研(yan)(yan)(yan)磨要高出1-2個數量級，并且可(ke)以實現納米級到(dao)原子級的(de)(de)表面(mian)粗(cu)糙度。而且拋(pao)(pao)光出來的(de)(de)鏡面(mian)效(xiao)果亮(liang)度很高，沒有(you)斷層，平面(mian)性(xing)好。一般用金鑫平面(mian)研(yan)(yan)(yan)磨機(ji)(ji)可(ke)以達到(dao)又快(kuai)又好的(de)(de)效(xiao)果。