拋光液對(dui)拋光工(gong)藝的影響

1.溫(wen)度(du)：溫(wen)度(du)的(de)升高增強了(le)拋(pao)光(guang)(guang)液(ye)的(de)化學(xue)反應能力(li)，提高了(le)拋(pao)光(guang)(guang)速(su)率。但(dan)是(shi)溫(wen)度(du)太(tai)高會引起拋(pao)光(guang)(guang)液(ye)體的(de)揮發(fa)和化學(xue)反應的(de)加速(su)將導致嚴重的(de)表面腐蝕，這將產生(sheng)不(bu)均勻的(de)拋(pao)光(guang)(guang)效果并降低拋(pao)光(guang)(guang)質量下降。

2.pH值：拋(pao)光液的(de)pH值越高(gao)，堿度(du)越強，反(fan)應(ying)(ying)速度(du)越快。 但(dan)是(shi)，pH值是(shi)溶液和溶解度(du)以及拋(pao)光液的(de)穩定性有很大(da)的(de)影響，影響材(cai)料的(de)去除率和表面質量，因(yin)此應(ying)(ying)嚴格控制(zhi)。

3.壓(ya)力(li)：通常，壓(ya)力(li)越高，拋(pao)光(guang)(guang)速度(du)越快。 然(ran)而(er)，當壓(ya)力(li)足夠(gou)高時，拋(pao)光(guang)(guang)速率將(jiang)略微降(jiang)(jiang)低。由于高壓(ya)，拋(pao)光(guang)(guang)墊承載(zai)拋(pao)光(guang)(guang)液的能力(li)降(jiang)(jiang)低。 另外(wai)，大壓(ya)力(li)容易形成碎片(pian)。

4.旋轉(zhuan)速(su)度(du)：旋轉(zhuan)速(su)度(du)的增加(jia)會(hui)導致拋(pao)光(guang)(guang)(guang)速(su)率的增加(jia)。 但是，如果(guo)轉(zhuan)速(su)過高，則拋(pao)光(guang)(guang)(guang)液會(hui)不均勻(yun)地分布在(zai)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)墊上均勻(yun)地影響拋(pao)光(guang)(guang)(guang)質量。

5.拋光(guang)液濃度(du)：當(dang)拋光(guang)液濃度(du)增加(jia)時(shi)，去(qu)除(chu)率也增加(jia)，但是當(dang)磨粒濃度(du)超過一定值(zhi)時(shi)，材(cai)料(liao)去(qu)除(chu)率將停止增加(jia)并保持恒(heng)定值(zhi)。 這種(zhong)現象(xiang)稱為(wei)去(qu)除(chu)飽和。 濃度(du)過高可能會(hui)導致表面缺陷（劃(hua)痕）增加(jia)，影響表面質(zhi)量。