不(bu)銹鋼常用的幾種拋光方法

一、機械拋光

機(ji)械拋(pao)光是靠切削、材(cai)料(liao)表(biao)(biao)面(mian)塑性變形去(qu)掉被(bei)拋(pao)光后的(de)(de)凸部而得(de)到平滑面(mian)的(de)(de)拋(pao)光方(fang)(fang)法(fa)(fa)，一般使用油石條、羊毛(mao)輪、砂紙(zhi)等，以手工(gong)操(cao)作為主，特(te)殊零(ling)件(jian)如回轉(zhuan)體表(biao)(biao)面(mian)，可(ke)(ke)使用轉(zhuan)臺(tai)等輔助工(gong)具，表(biao)(biao)面(mian)質量要求高(gao)的(de)(de)可(ke)(ke)采(cai)用超精研拋(pao)的(de)(de)方(fang)(fang)法(fa)(fa)。超精研拋(pao)是采(cai)用特(te)制的(de)(de)磨具，在含有磨料(liao)的(de)(de)研拋(pao)液(ye)中，緊(jin)壓在工(gong)件(jian)被(bei)加工(gong)表(biao)(biao)面(mian)上，作高(gao)速(su)旋(xuan)轉(zhuan)運(yun)動。利用該(gai)技術可(ke)(ke)以達到Ra0.008μm的(de)(de)表(biao)(biao)面(mian)粗糙度。光學(xue)鏡片模具常采(cai)用這(zhe)種方(fang)(fang)法(fa)(fa)。

二、化學拋光

化(hua)學(xue)拋(pao)光(guang)(guang)是(shi)讓材料在化(hua)學(xue)介質(zhi)中表面(mian)(mian)微觀凸出(chu)的(de)部分較(jiao)凹(ao)部分優先溶解，從(cong)而(er)得到(dao)平滑面(mian)(mian)。這種方(fang)法的(de)主(zhu)要優點是(shi)不需復(fu)(fu)雜(za)設備，可(ke)以(yi)拋(pao)光(guang)(guang)形狀復(fu)(fu)雜(za)的(de)工件，可(ke)以(yi)同時拋(pao)光(guang)(guang)很多工件，效率高。化(hua)學(xue)拋(pao)光(guang)(guang)的(de)核(he)心問題(ti)是(shi)拋(pao)光(guang)(guang)液的(de)配制。化(hua)學(xue)拋(pao)光(guang)(guang)得到(dao)的(de)表面(mian)(mian)粗糙度一般(ban)為(wei)數10μm。

三、電解拋光

電解拋(pao)光基本原理與化(hua)學(xue)拋(pao)光相同(tong)，即靠選擇性(xing)的溶(rong)解材料表面(mian)微(wei)小凸出部分(fen)，使表面(mian)光滑。與化(hua)學(xue)拋(pao)光相比，可以消(xiao)除(chu)陰極反應(ying)的影響，效果較好(hao)。電化(hua)學(xue)拋(pao)光過程(cheng)分(fen)為兩步: (1)宏觀(guan)整平 溶(rong)解產(chan)物向電解液中擴散，材料表面(mian)幾何(he)粗糙下降，Ra>1μm。(2)微(wei)光平整 陽(yang)極極化(hua)，表面(mian)光亮度提高，Ra<1μm。

四、超聲波拋光

將工(gong)件(jian)(jian)放入(ru)磨料懸浮(fu)液中(zhong)(zhong)并一起置于超(chao)(chao)(chao)聲波場中(zhong)(zhong)，依靠超(chao)(chao)(chao)聲波的(de)振蕩作(zuo)用(yong)，使磨料在工(gong)件(jian)(jian)表面(mian)磨削拋光。超(chao)(chao)(chao)聲波加工(gong)宏觀力小，不(bu)會引(yin)起工(gong)件(jian)(jian)變形，但工(gong)裝(zhuang)制作(zuo)和安(an)裝(zhuang)較困(kun)難。超(chao)(chao)(chao)聲波加工(gong)可以與化(hua)(hua)學(xue)或電(dian)化(hua)(hua)學(xue)方法(fa)結合。在溶液腐蝕(shi)(shi)、電(dian)解的(de)基(ji)礎上，再施加超(chao)(chao)(chao)聲波振動(dong)攪拌溶液，使工(gong)件(jian)(jian)表面(mian)溶解產物脫(tuo)離，表面(mian)附近的(de)腐蝕(shi)(shi)或電(dian)解質(zhi)均(jun)勻；超(chao)(chao)(chao)聲波在液體中(zhong)(zhong)的(de)空(kong)化(hua)(hua)作(zuo)用(yong)還(huan)能夠阻止腐蝕(shi)(shi)過程，利于表面(mian)光亮化(hua)(hua)。

五、流體拋光

流(liu)(liu)(liu)體(ti)(ti)拋光是依靠高速(su)流(liu)(liu)(liu)動的液體(ti)(ti)及(ji)其攜(xie)帶(dai)的磨(mo)粒沖刷(shua)工(gong)件表(biao)面(mian)達到拋光的目(mu)的。常用(yong)方法有(you):磨(mo)料噴(pen)射(she)(she)加工(gong)、液體(ti)(ti)噴(pen)射(she)(she)加工(gong)、流(liu)(liu)(liu)體(ti)(ti)動力研磨(mo)等(deng)。流(liu)(liu)(liu)體(ti)(ti)動力研磨(mo)是由(you)液壓(ya)(ya)驅動，使(shi)攜(xie)帶(dai)磨(mo)粒的液體(ti)(ti)介(jie)質高速(su)往復流(liu)(liu)(liu)過工(gong)件表(biao)面(mian)。介(jie)質主要采(cai)用(yong)在較低壓(ya)(ya)力下流(liu)(liu)(liu)過性好的特殊化合(he)(he)物(聚(ju)合(he)(he)物狀物質)并摻(chan)上磨(mo)料制成，磨(mo)料可采(cai)用(yong)碳化硅粉(fen)末。

六、磁研磨拋光

磁研(yan)磨(mo)(mo)(mo)拋光是(shi)利用磁性磨(mo)(mo)(mo)料在磁場作(zuo)(zuo)用下形成磨(mo)(mo)(mo)料刷，對工(gong)件(jian)磨(mo)(mo)(mo)削加工(gong)。這種方法加工(gong)效率高，質量好，加工(gong)條件(jian)容易控制，工(gong)作(zuo)(zuo)條件(jian)好。采用合適(shi)的磨(mo)(mo)(mo)料，表面粗糙(cao)度可以達到Ra0.1μm。

七、化學機械拋光

化(hua)(hua)學(xue)機(ji)械研(yan)磨(mo)技術綜合了化(hua)(hua)學(xue)研(yan)磨(mo)和機(ji)械研(yan)磨(mo)的(de)(de)(de)(de)優(you)勢，是現(xian)在(zai)(zai)常用(yong)(yong)的(de)(de)(de)(de)拋光方法，連手機(ji)殼(ke)，取卡針(zhen)，按鍵(jian)等都是用(yong)(yong)金(jin)鑫平(ping)面研(yan)磨(mo)機(ji)拋光的(de)(de)(de)(de)。可以在(zai)(zai)保證材料(liao)去除效(xiao)率的(de)(de)(de)(de)同時，獲得較完美的(de)(de)(de)(de)表(biao)面，得到的(de)(de)(de)(de)平(ping)整度比單(dan)純使用(yong)(yong)這兩種研(yan)磨(mo)要高(gao)出1-2個數量級(ji)，并且可以實(shi)現(xian)納(na)米級(ji)到原子級(ji)的(de)(de)(de)(de)表(biao)面粗糙度。而且拋光出來的(de)(de)(de)(de)鏡面效(xiao)果亮度很高(gao)，沒有(you)斷層，平(ping)面性好。一般用(yong)(yong)金(jin)鑫平(ping)面研(yan)磨(mo)機(ji)可以達到又快又好的(de)(de)(de)(de)效(xiao)果。